芯越微电子请求可以维护GaAs和PI衬底光刻胶剥离液专利不腐蚀GaAs和PI衬底

时间: 2025-01-31 23:28:30 |   作者: 特种活性剂

  金融界2025年1月30日音讯，国家知识产权局信息数据显现，芯越微电子资料（嘉兴）有限公司请求一项名为“一种可以维护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其使用”的专利，公开号CN 119376200 A，请求日期为2024年12月。

  专利摘要显现，本发明归于半导体制作工艺中蚀刻后光刻残留物的剥离技能领域，特别触及一种可以维护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其使用。本发明供给的光刻胶剥离液成分包含环状有机胺、醇醚有机溶剂、二元醇和唑类缓蚀剂；所述环状有机胺化学式如式（I）所示，式（I）中，R1和R2各自独登时为‑H、‑CH3、‑NH2、‑C6H5、‑CH3C6H5、‑CH3CH2OH或‑CH3CH2NH2，R3为‑H或‑CH3；所述二元醇为含有碳原子数2~6的脂肪族二元醇；所述光刻胶剥离液不含水、非质子极性溶剂、氧化剂、卤素化合物、羟胺、季铵碱和无机碱中的恣意一种。本发明供给的光刻胶剥离液不腐蚀GaAs和PI衬底，且具有优异才能的溶胶才能。

  天眼查资料显现，芯越微电子资料（嘉兴）有限公司，成立于2020年，坐落嘉兴市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制作业为主的企业。企业注册本钱1793.7252万人民币，实缴本钱856.7342万人民币。经过天眼查大数据分析，芯越微电子资料（嘉兴）有限公司共对外出资了2家企业，参加招投标项目5次，知识产权方面有商标信息20条，专利信息18条，此外企业还具有行政许可15个。

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